低メタル・低パーティクル化
当社は、半導体材料製造における吸着剤およびフィルター技術に知見があります。また、ICP-MS（誘導結合プラズマ質量分析計）および液中パーティクルカウンターを自社で保有し、製品中の金属濃度をppbレベル、粒径100nm程度までのパーティクル数を管理することが可能です。
精製実績（低メタル化）
| 最大処理量 | 15L ※スケールアップ検討中 |
|---|---|
| 定量下限 | 200ppt（PGMEA） 金属種類 Li,Na,Mg,Al,K,Ca,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Zn,Sr Pd,Sn,Ba,Pb,Ti |
| 金属低減方法 | 吸着剤、フィルター |
| 実績 | 金属濃度2000ppbの液を50ppbまで低減 |
金属濃度
精製実績（低パーティクル化）
| 最大処理量 | 18L ※スケールアップ検討中 |
|---|---|
| パーティクル低減方法 | フィルターによる循環ろ過 |
| 実績 | PGMEA (4L) の循環ろ過において、粒径70nm以上のパーティクルが、10時間で4687個/mLから0.3個/mLまで低減 |
粒径70nm以上のパーティクル数
